A high-performance self-aligned UMOSFET with a vertical trench contact structure / Matsumoto Satoshi, Ohno Terukazu, Ishii Hiromu, Yoshino Hideo // IEEE. Trans. Electron Devices - 1994-41, № 5. - С. 814-818.
Hofstein S. R., Heiman F. P. The Silicon Insulated-Gete Field-Effect Transistor, Proc. IEEE, 51, 1190 (1963).
Horwitz C. M. Variable-Angle Dry Etching with a Hollow Cathode // Appl. Phys. Leltt, 1984. Vol. 44, № 11. P. 1041-1043.
Ihantola H. K. Design Theory of a Surface Field-Effect Transistor, Stanford Electron. Lab. Tech. Rep. No. 1661-1 (1961).
Ihantola H. K. J., Moll J. L. Design Theory of a Surface Field-Effect Transistor, Dolid State Electron., 7, 423 (1964).
Kahng D., Atalla M. M. Silicon-Silicon-Dioxide Field Induced Surface Devices, IRE Solide-State Device Res. Conf., Carnegie Institute of Technology, Pittsburgh., Pa., 1960; Kahng D. A Historical Perspective on the Development of MOS Transistors and Related Devices, IEEE Trans. Electron Devices, ED-23, 655 (1976).
Proc?d? de realization d'un TRANSISTOR A EFFET de champ hyparfr?quence: Заявка 2685819 Франция, MKU5 H 01 L 29/812/ Pacou T., Arsene-Henry P., Pham Ngu Tung, Aubame E.; Soci?t? date: Thomson Composants Microondes - № 9116377: Заявл. 31.12.91; опубл. 2.7.93.
Sah C. T. Characteristics of the Metal-Oxide-Semiconductor Transistors, IEEE Trans. Electorn Devices, ED-11, 324 (1964).
Tarui Y., Hayashi Y., Sekigawa T. Diffusion Self-Aligned Enhance-Depletion MOS-IC, Proc. 2nd Conf. Solid State Devices, Suppl. J. Jpn. Soc. Appl. Phys., 40, 193 (1971).
Vertical current flow field effect transistor with thick insulator over hor-Channal areas: Пат. 5298781 США, MKU5 H 01 L 29/76/ Cogan Adrian I., Blanchard Richard A.; Siliconix inc. - № 910864; Заявл. 8.7.92; Опубл. 29.3.94; MKU 257/333.
А. Блихер Физика силовых биполярных и полевых транзисторов. - Л.: Энергоатомиздат, 1986. - 248 с.
Гордеев Д. Д., Дягилев В. Н., Парменов Ю. А. Технология вертикально-интегрированных полупроводниковых структуры для создания СБИС. // Зарубежная электронная техника. - 10 октября 1987. - с. 3.
Данилин Б. С., Киреев В. Ю. Вакуумно-технические проблемы ионного, ионно-химического и плазмохимического травления: Обзоры по электронной технике. Сер. 3. Микроэлектроника. 1984. Вып. 5 (1050) (ЦНИИ "Электроника"). 56 с.
Данилин Б. С., Киреев В. Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. - М.: Энергоатомиздат, 1987. - 264 с.
Зи С. Физика полупроводнковых приборов. - М.: Мир, 1984. - 456 с.
Киреев В. Ю., Данилин Б. С., Кузнецов В. И. Плазмохимическое и ионно-химическое травление микроструктур. - М.: Радио и связь, 1983. - 126 с.
Никишин В. И., Петров Б. К., Сыноров В. Ф. Проектирование и технология производства мощных СВЧ транзисторов. - М.: Радио и связь, 1989. - 145 с.
Окснер Э. С. Мощные полевые транзисторы и их применение. - М.: Радио и связь, 1985. - 288 с.
Расчет стационарной концентрации радикалов и скорости травления материалов в плазме газовых разрядов / В. Ю. Киреев, Б. С. Данилин, В. Д. Журавов, В. И. Кузнецов // Химия высоких энергий. 1980. № 4. - С. 72-77.
Технология СБИС / Под ред. С. Зи. Книга 2. - М.: Мир, 1986. - 456 с.
Тешнер, Жикель, Гридистор - новый полевой прибор. - ТИИЭР, 1964, т. 52, № 12, с. 1630-1641.
Радиоконструирование, основы радиотехники Изучаются: общие сведения об электронных цепях и сигналах; активные
линейные и нелинейные цепи и устройства, классификация и спектральные характеристики детерминированных
сигналов, случайные сигналы; прохождение сигналов ...